Engenharia Geral

Machine Learning-Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes

de Oluwatobi Adeleke, Tien-Chien (University Of Johannesburg, South Africa) Jen e Sina Karimzadeh 

Bertrand.pt - Machine Learning-Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes
idioma: Inglês
Editor: TAYLOR & FRANCIS LTD
Edição: maio de 2025
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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

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Machine Learning-Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes
de Oluwatobi Adeleke, Tien-Chien (University Of Johannesburg, South Africa) Jen e Sina Karimzadeh 
ISBN:
9781032386737
Ano de edição:
05-2025
Editor:
TAYLOR & FRANCIS LTD
Idioma:
Inglês
Dimensões:
156 x 234 x 20 mm
Encadernação:
Capa mole
Páginas:
354
Tipo de Produto:
Livro
Coleção:
Emerging Materials And Technologies
Classificação Temática:
Livros  >  Livros em Inglês  >  Engenharia  >  Engenharia Geral

EAN:
9781032386737

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