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Contains the papers from the Symposium K Carbon-based Materials for Microelectronics of the European Materials Research Society meeting which was held on 16-19 June 1998, Strasbourg, France.
Ion Implantation Into Semiconductors, Oxides And Ceramics
Rapid Thermal Processing
Techniques And Challenges For 300 Mm Silicon: Processing, Characterization, Modelling And Equipment
Nitrides And Related Wide Band Gap Materials
de A. (Optoelectronics Group, University Of Stuttgart, Germany) Hangleiter, F.A. (Xerox Parc, Palo Alto. Ca, Usa) Ponce, K. (Electrical And Electronics Engineering, Sophia University, Tokyo, Japan) Kishino, (...)
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